名片曝光使用说明

步骤1:创建名片

微信扫描名片二维码,进入虎易名片小程序,使用微信授权登录并创建您的名片。

步骤2:投放名片

创建名片成功后,将投放名片至该产品“同类优质商家”栏目下,即开启名片曝光服务,服务费用为:1虎币/天。(虎币充值比率:1虎币=1.00人民币)

关于曝光服务

名片曝光只限于使用免费模板的企业产品详细页下,因此当企业使用收费模板时,曝光服务将自动失效,并停止扣除服务费。

<

返回首页

产品推荐
X光检测仪
面议
X光检测仪

英国Thermco公司扩散炉、LPCVD、氧化炉、退火炉、合金化炉  产品概述 英国Thermco Systems公司成立于1962年,是世界上著名的卧式扩散炉、氧化炉、退火炉、合金化炉及LPCVD炉的制造商,在全球各处的半导体制造厂里都有大量的安装应用,迄今为止安装记录已超过20000管。 根据基片尺寸以及产量要求的不同,HTR系列可分为6200,5100/5200,4500/4900,2400/2600等;可处理4¨~10¨的基片,每管处理能力分别可达25片、50片或100片;根据配置不同的工艺气源及温度控制范围,各型号的产品均可用于LPCVD、扩散及氧化等热处理反应工艺。  产品应用 标准半导体工艺 •LPCVD氮化硅(标准型) •LPCVD氮化硅(低应力型) •LPCVD斜坡温度多晶硅 •LPCVD一致晶粒多晶硅 •LPCVD氧化层TEOS(正硅酸乙脂) •LPCVD VLTO(低温氧化) •LPCVD BPSG(硼磷硅玻璃) • 高温氧化 • 干法氧化 • 湿法氧化 • 掺杂扩散 (3-4路液相掺杂管路 ( POCL3 or BBR3)) • 5-6路TCA或Hcl气路 • 混合气体退火 • 高温热回火 • 低温退火和合金化 • 高温驱入(Drive in) 标准LED工艺 •高真空退火(环境可控) •低温合金化/退火 标准PV(太阳能)工艺 •湿氧/干氧 •PN结驱入 •Forming气体退火 •氢气退火 •低温热处理 •POCl3,BBr3 PN结和槽 •反射氮化膜(ARC Nitride coating) 标准MEMS(微机电)工艺 •低应力CVD氮化物 •氧氮化物SIPOS •厚氧 •TEOS,良好的台阶覆盖能力 •多晶硅和掺杂多晶硅

产品推荐
“英国Thermco公司扩散炉氧化炉”信息由发布人自行提供,其真实性、合法性由发布人负责。交易汇款需谨慎,请注意调查核实。